* 중앙부처 1차 해석은 부처에서 해석한 내용을 수집·제공하는 공공데이터로, 현재 기준과 다를 수 있습니다. 구체적 사안은 소관 부처에 확인하거나 전문가 상담을 권장합니다.
석유화학제품을 생산하기 위해 투자하는 생산자동화 설비 및 생산자동화 제어설비 중 주공정 또는 기능의 제어가 마이크로프로세서 등에 의하여 자동으로 조절되는 기계장치 또는 설비는 생산성향상시설투자에 대한 세액공제 대상이나, 사실판단할 사항임
석유화학제품을 생산하는 내국법인이 생산성 향상을 위하여 투자하는 「조세특례제한법 시행규칙」(2021.3.16. 기획재정부령 제831호로 개정되기 전의 것) [별표2]에 따른 「생산자동화 설비 및 생산자동화 제어설비」 중 주공정 또는 기능의 제어가 마이크로프로세서 또는 수치제어장치에 의하여 자동으로 조절되는 기계장치 또는 설비는 「조세특례제한법」(2020.12.29. 법률 제17759호로 개정되기 전의 것) 제25조제1항제6호가목에 따른 생산성향상시설투자에 대한 세액공제 대상에 해당하는 것이나
귀 사전답변 신청의 사실관계에서 ‘분산제어시스템’에 의해 원료의 투입・냉각・압축 등 및 제품의 저장・출하 등이 이루어지는 시설이 이에 해당하는지 여부는 사실판단할 사항임
1. 사실관계
○A법인은 충남에 본사를 두고 ’14.**.**. 설립되어 석유화학제품 제조업을 영위하는 법인으로 B법인이 60%, C법인이 40%의 지분을 각각 보유하고 있음
○A법인은 B법인의 공장 내 부지에 납사, 탈황 중질유, 부생가스 등 정유공장에서 발생하는 부산물을 가공하여 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등 석유화학제품을 생산하는 중질유 석유화학시설(이하 “HPC”, Heavy-feed Petrochemical Complex)을 건설하고 있는데
-해당 HPC 시설은 약 0,000억원이 소요되며 ’19사업연도에 투자를 개시하여 ’21.9월 완공을 목표로 현재 투자가 진행되고 있음
○HPC 시설에는 주공정 또는 기능의 제어가 마이크로프로세서 등에 작동하는 ‘분산제어시스템(DCS, Distributed Control System)’에 의해 원료의 투입・배합・냉각・압축 등 및 제품의 저장・출하 등이 이루어지는 시설(이하 “쟁점시설”)을 포함하고 있는데
-쟁점시설은 아래 그림과 같이 폴리에틸렌 등을 생산하는 원료인 납사, 탈황 중질유(T-DAO), LPG, 부생가스 등을 각각 저장하는 탱크(이하 “원료저장시설”)와 그 원료를 배관을 통해 혼합하여 가열・냉각・압축・정제 등을 하는 시설(이하 “제품생산시설”) 그리고, 생산된 폴리에틸렌 등을 저장하는 시설(이하 “제품저장시설”)로 구성되며
-쟁점시설은 ’19과세연도에 투자를 개시하여 ’20과세연도까지 총 약 000억원을 투입하여 현재 건설 중에 있음
[DCS의 주요 기능 ]
구분
설명
제어 스테이션
(Field Control Station, FCS)
공정상 입력된 데이터에 의해 마이크로프로세서를 통해 다양한 제어 및 연산기능을 자동으로 수행
모니터링스테이션
(Human Interface Station, HIS)
공정의 자동화 상태를 모니터링 하기 위한 장치로 각 FCS의 제어 및 운전정보를 수집하여 다른 시스템에 정보를 제공
* 엔지니어가 한 장소에서 현장 전체를 모니터링 가능
엔지니어링스테이션
(Engineering Work Station, EWS)
공정에서 제어 기능 및 모니터링 기능이 동작할 수 있도록 제어 로직의 수정 및 모니터링 스테이션 수정 등을 수행
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분산제어시스템의 역할 > |
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최적 생산조건 (목표값) 입력 |
➡ |
분산제어시스템 |
➡ |
생산의 자동화 및 효율화 |
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각 공정의 마이크로프로세서가 각 공정의 목표값에 도달할 수 있도록 자동으로 제어 |
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[ 분산제어시스템 흐름도 ]
○한편, B법인은 원유를 일정한 압력과 온도에 따라 액화석유가스(LPG), 휘발유, 납사(독일발음: 나프타), 등유・경유・중유, 아스팔트 등을 분리하는 중질유 정제 및 탈황공정기술을 보유하고 있는 정유업체이고
-C법인은 유정에서 생산되는 천연가스와 함께 나오는 휘발성 액체 탄화수소인 콘덴세이트(비중이 가벼워 ‘초경질유’에 해당) 등을 수입하여 NCC(중질유 분해설비)에서 납사를 분리하여 에틸렌과 프로필렌 등을 생산하는 기술을 보유하는 석유화학업체인데
-정유사와 석유화학회사의 합작을 통해 시너지 효과를 높이기 위해A법인을 설립하고 기존의 납사만으로 제품을 생산하던 방식에서
-납사 뿐 아니라 값싼 탈황 중질유(T-DAO), 부생가스, LPG 등을 유동적으로 혼합하여 가격경쟁력이 뛰어나고 제품의 품질이 우수한 폴리에틸렌 등을 생산하기 위해 쟁점시설에 투자하고 있는 것임
[ 저장시설 및 배관의 제어장치
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구분 |
원료 저장탱크 |
제품 저장탱크 |
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유종 |
T-DAO ・납사 등 |
폴리에틸렌 등 석유화학제품 |
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밸브제어 |
MOV(Motor Operated Valve, 개폐조절):밸브의 제어운전을 위해 사용하는 기계장치를 구동장치라고 하며, 구동장치의 구동을 위해 사용되는 Power source가 전기적인 힘에 의할 경우, 이와 같은 종류의 구동장치를 사용하는 밸브를 통칭함 MOV는 구성방식에 따라 On/Off, Open/Close, 비례제어, Time Control 등의 다양한 기능을 수행 DCS 제어 시스템과 연계하여 사용할 경우, 조정실에서 Remote Control이 가능하며 실제로 탱크 운전에 활용되고 있음. *비례제어(Proportional Control):단순 On/Off 제어보다 제어결과의 정확도를 높일 수 있는 자동제어방식 |
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레벨제어 |
LAL(Level Alarm Low)・LAH(Level Alarm High)・LAHH(Level Alarm High High): 일반적으로 저장탱크 내 설치된 Level Alarm system 의 경우, LAL・LAH・LAHH가 있음(최근 탱크의 경우 LALL까지 설치됨) LAL・LALL(Level Alarm Low Low)의 경우, 저장 탱크 내 저장된 유체의 레벨(높이)가 너무 낮아졌을 때, 이를 알려주는 시스템 ☞ 출하・공정 투입 등의 사유로 인해 저장 탱크 내 레벨이 너무 낮아질 경우, 저장 탱크 내 압력이 너무 낮아지게 되면 탱크, 펌프 등의 관련 설비 손상으로 이어질 수 있으므로 Low Level에 대한 관리가 필요 LAH・LAHH의 경우, 저장 탱크 내 저장된 유체의 레벨(높이) 가 매우 높아져 Overflow의 우려가 발생할 경우 이를 알려주는 시스템 LSHH(Level Switch High High)의 경우, LAH・LAHH 1차 및 2차 알람 시스템의 모두 고장으로 저장탱크 Overflow 위험을 놓쳤을 때, 이를 알려주기 위한 시스템으로 3차(마지막) 안전장치로 활용하기 위해 설치 ☞ Alarm System 자체적으로는 직접적인 레벨제어 운전방식이 아니지만, Alarm System을 활용하여 특정 Logic을 통해 레벨제어 운전에 사용하고 있음 |
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Mixer제어 |
LI・VAH・XL |
LI・XL |
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LI(Level Indicator): Tank Mixer Seal oil Reservoir에는 Mixer 가동 과정에서 기름유출을 방지하기 위해 Seal oil이 있으며, seal oil은 정상의 경우 어느 정도 일정한 레벨을 유지하여야 함 XL(Running Status): XL 은 Mixer 가동 후, 조정실 내에서 정상적으로 가동되고 있는지(Running status)를 확인하기 위해 설치 VAH(Vibration Alarm High): Mixer 와 같은 회전기계들은 진동이 심할 경우 이탈될 위험이 있으며, 저장탱크 외부에 설치된 Mixer 이탈이 일어나면 기름 유출 사고로 이어질 수 있는 것을 방지하기 위해 설치 |
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구분 |
원료 저장탱크 |
제품 저장탱크 |
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유종 |
T-DAO・납사 등 |
폴리에틸렌 등 석유화학제품 |
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누출제어 |
AI(Analysis Indicator): 가스류(LPG, Propylene) 저장탱크에 설치되어 있으며, 일반적으로 이와 같은 장치를 Gas Detector라고 함 Gas Detector에 설정된 일정 수준의 값을 넘어가는 수준으로 가스가 유출될 경우, 조정실로 Alarm이 울리게 설정됨 |
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온도・압력 등 제어 |
TI |
TI・PI・PCV |
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TI(Temperature Indicator)의 경우, 직접적인 탱크 제어 운전에는 사용되는 것은 아니며, 다만 저장 탱크의 온도에 따라 인위적인 행동을 취하기 위해 사용하고 있음 -TI의 사용 예로, 만약에 중유 저장탱크의 온도를 70도 이상으로 관리하여야 하는데, 저장탱크의 TI수치가 40도로 너무 낮아 동절기 유체 흐름성이 악화될 것으로 예상된다면, Steam을 공급하여 탱크온도를 유지 PI(Pressure Indicator) 의 경우, TI와 마찬가지로 직접적인 탱크제어 운전에는 사용되는 것은 아님 다만, 가스탱크와 같은 고압력 탱크에 압력이 너무 높게 운전되는 것이 PI를 통해 확인될 경우, 압력을 낮추기 위해 Tank Circulation / Vapor balancing 등의 별도의 인위적 행동을 취함 PCV(Pressure Control Valve)의 경우, BTX류 제품과 같이 변질(산화)우려가 있는 제품은 저장탱크 내 N2(Nitrogen)을 Filling하여 제품변질이 되지 않도록 유지함 -PCV는 이러한 N2 공급 밸브에 설치되어 저장탱크 내 압력에 따라 N2 를 자동적으로 공급하는 역할을 수행 |
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2. 질의요지
○주요 공정 및 기능의 제어가 마이크로프로세서에 의해 작동되는 분산제어시스템에 의해 자동으로 조절되어 석유화학제품을 생산하는 경우
-해당 분산제어시스템에 의해 자동조절되는 시설을 舊 「조세특례제한법」(2020.12.29. 법률 제17759호로 개정되기 전의 것) 제25조제1항제6호가목에 따른 생산성향상시설로 보아 투자세액공제를 적용할 수 있는지 여부
3. 관련 법령
○조세특례제한법 제25조 【특정시설투자 등에 대한 세액공제】
(2018.12.24. 법률 제16009호로 개정된 것)
①내국인이 제1호부터 제3호까지의 규정에 해당하는 시설에 2021년 12월 31일까지 투자(중고품 및 대통령령으로 정하는 리스에 의한 투자는 제외한다. 이하 이 조에서 같다)하거나 제4호에 해당하는 시설을 2021년 12월 31일까지 취득(신축, 증축, 개축 또는 구입을 포함한다. 이하 이 조에서 같다)하는 경우 또는 제5호 및 제6호에 해당하는 시설에 2019년 12월 31일까지 투자하는 경우에는 제2항에 따라 계산한 금액에 상당하는 세액을 투자를 완료한 날 또는 취득일이 속하는 과세연도의 소득세(사업소득에 대한 소득세만 해당한다) 또는 법인세에서 공제한다.
1.~ 5.(생략)
6.다음 각 목의 어느 하나에 해당하는 생산성향상시설
가.대통령령으로 정하는 공정(工程) 개선 및 자동화 시설
나.대통령령으로 정하는 첨단기술시설
다.자재조달·생산계획·재고관리 등 공급망을 전자적 형태로 관리하기 위하여 사용되는 컴퓨터와 그 주변기기, 소프트웨어, 통신시설, 그 밖의 유형·무형의 시설로서 감가상각기간이 2년 이상인 시설
② 제1항에 따라 공제할 금액은 제1항 각 호의 시설에 대한 투자금액 또는 취득금액(해당 시설에 딸린 토지의 매입대금은 제외한다. 이하 이 조에서 같다)에 다음 표에 따른 공제율을 곱한 금액으로 한다.
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시 설 |
공제율 |
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중소기업 |
중견기업 |
그 밖의 기업 |
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제1항 제1호・제2호 및 제6호의 시설 |
100분의 7 |
100분의 3 |
100분의 1 |
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제1항 제3호 및 제4호 가목부터 마목까지의 시설 |
100분의 10 |
100분의 5 |
100분의 3 |
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제1항 제4호 바목의 시설 |
100분의 10 |
100분의 10 |
100분의 10 |
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제1항 제5호의 시설 |
100분의 10 |
100분의 5 |
100분의 1 |
③ 제1항에 따른 투자가 2개 이상의 과세연도에 걸쳐서 이루어지는 경우에는 그 투자가 이루어지는 과세연도마다 해당 과세연도에 투자한 금액에 대하여 제1항을 적용받을 수 있다.
④ 제1항에 따른 투자금액의 계산에 필요한 사항은 대통령령으로 정한다.
⑤ 제1항제4호에 해당하는 시설을 취득하는 경우에 공제세액의 계산에 필요한 사항은 대통령령으로 정한다.
⑥ 제1항을 적용받으려는 내국인은 대통령령으로 정하는 바에 따라 세액공제신청을 하여야 한다.
⑦ 제1항제4호에 해당하는 시설을 취득하여 소득세 또는 법인세를 공제받은 자가 해당 자산의 준공일 또는 구입일부터 5년 이내에 그 자산을 다른 목적에 전용한 경우에는 전용한 날이 속하는 과세연도의 과세표준신고를 할 때 그 자산에 대한 세액공제액 상당액에 대통령령으로 정하는 바에 따라 계산한 이자 상당 가산액을 가산하여 소득세 또는 법인세로 납부하여야 하며, 해당 세액은 「소득세법」 제76조 또는 「법인세법」 제64조에 따라 납부하여야 할 세액으로 본다.
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법률 제16009호 부칙(2018.12.24. 개정) 제1조(시행일) 이 법은 2019년 1월 1일부터 시행한다. 다만, (단서 생략) 제9조(특정 시설 투자 등에 대한 세액공제에 관한 적용례) ①제25조제1항제1호부터 제3호까지, 제5호 및 제6호의 개정규정에 해당하는 시설에 적용되는 제25조제2항의 개정규정에 따른 공제율은 이 법 시행 이후 투자하는 분부터 적용한다. (이하생략) |
○조세특례제한법 제25조 【특정시설투자 등에 대한 세액공제】
(2019.12.31. 법률 제16835호로 개정된 것)
①내국인이 제1호부터 제3호까지, 제5호 및 제6호에 해당하는 시설에 2021년 12월 31일까지 투자(중고품 및 대통령령으로 정하는 리스에 의한 투자는 제외한다. 이하 이 조에서 같다)하거나 제4호에 해당하는 시설을 2021년 12월 31일까지 취득(신축, 증축, 개축 또는 구입을 포함한다. 이하 이 조에서 같다)하는 경우에는 제2항에 따라 계산한 금액에 상당하는 세액을 투자를 완료한 날 또는 취득일이 속하는 과세연도의 소득세(사업소득에 대한 소득세만 해당한다) 또는 법인세에서 공제한다.
1.~5.(생략)
6.다음 각 목의 어느 하나에 해당하는 생산성향상시설
가.대통령령으로 정하는 공정(工程) 개선 및 자동화 시설
나.대통령령으로 정하는 첨단기술시설
다.자재조달·생산계획·재고관리 등 공급망을 전자적 형태로 관리하기 위하여 사용되는 컴퓨터와 그 주변기기, 소프트웨어, 통신시설, 그 밖의 유형·무형의 시설로서 감가상각기간이 2년 이상인 시설
② 제1항에 따라 공제할 금액은 제1항 각 호의 시설에 대한 투자금액 또는 취득금액(해당 시설에 딸린 토지의 매입대금은 제외한다. 이하 이 조에서 같다)에 다음 표에 따른 공제율을 곱한 금액으로 한다.
다만, 제1항제6호의 시설에 2020년 1월 1일부터 2020년 12월 31일까지(중견기업 및 중소기업의 경우에는 2020년 1월 1일부터 2021년 12월 31일까지) 투자하는 경우에 대한 제1항에 따라 공제할 금액은 그 투자금액에 100분의 2(중견기업의 경우에는 100분의 5, 중소기업의 경우에는 100분의 10)를 곱한 금액으로 한다.
(세액공제율 [표] 생략)
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법률 제16835호 부칙(2019.12.31. 개정) 제1조(시행일) 이 법은 2020년 1월 1일부터 시행한다. 다만,(단서생략) 제13조(특정 시설 투자 등에 대한 세액공제에 관한 적용례) 제25조제1항 및 제2항의 개정규정은 이 법 시행 이후 투자하는 분부터 적용한다. |
○조세특례제한법 시행령 제22조의6 【생산성향상시설의 범위】
(2019.2.12. 대통령령 제29527호로 개정된 것)
① 법 제25조제1항제6호가목에서 “대통령령으로 정하는 공정(工程) 개선 및 자동화 시설”이란 공정을 개선하거나 시설의 자동화 및 정보화를 위해 투자하는 시설로서 기획재정부령으로 정하는 시설을 말한다.
②법 제25조제1항제6호나목에서 ”대통령령으로 정하는 첨단기술시설”이란 첨단기술을 이용하거나 응용하여 제작된 시설로서 기획재정부령으로 정하는 시설을 말한다.
○조세특례제한법 시행규칙 제13조의6 【생산성향상시설의 범위】
(2019.3.20. 기획재정부령 제726호로 개정된 것)
①영 제22조의6제1항에서 “기획재정부령으로 정하는 시설”이란 별표 2의 공정개선ㆍ자동화 및 정보화시설로서 해당 사업에 직접 사용되는 것을 말한다.
②(생략)
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■ 조세특례제한법 시행규칙 [별표 2] |
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공정개선·자동화·정보화시설 및 첨단기술설비 (제13조의6제1항 및 제2항 관련) |
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구분 |
적용범위 |
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1.생산자동화 설비및생산 자동화제어설비 |
가.제품의 설계 및 생산을 위한 컴퓨터와 수주·출하 및 판매 등에 대한 경영정보의 관리를 위한 컴퓨터의 본체·주변기기 [컴퓨터자동설계기(CAD)·캠(CAM)·보조기억장치·프린터·플로터· 웍스테이션·모뎀·단말기·인터베이스 및 정전압전원공급장치에 한한다] 및 소프트웨어 나.제조설비를 자동으로 제어하기 위한 공정제어기기 또는 공정 제어시스템 및 동 장치의 부분품 (1)프로그래머블로직콘트롤러(PLC) 및 수치제어장치(NC 또는 CNC)를 이용한 설비 (2)로보트 콘트롤러 및 컴퓨터통합시스템(CIM)과 관련 단위기기 (3)유공압밸브·유압펌프·공기압축기 및 유공압 액튜에이터 다.주공정 또는 기능의 제어가 마이크로프로세서 또는 수치 제어장치에 의하여 자동으로 조절되는 기계장치 또는 설비 라.2 이상의 기계를 조립하여 자동으로 제어하는 생산 또는 가공시스템(FMC·FMS 및 Transfer Line을 포함한다) 마.원자재·부품 및 완제품을 보관·저장 및 반출하기 위한 자동 창고시스템 및 하역장비(Loader & Unloader) 바.분산제어장치·종합정보표시판·무정전원공급장치·제어밸브· 신호전송기 및 부속기기 사.화학물질의 합성과정에서 요구되는 반응온도·압력 및 시간 농도를 자동으로 일정하게 유지되도록 하는 자동제어시스템· 화학반응합성장치 및 부속설비 아.3D 프린터(재료압출 방식이 적용된 것은 제외한다) 자.컴퓨터시스템에 의해 물품을 필요로 하는 위치까지 자동으로 반송하는 기능을 갖춘 무인 반송시스템 |
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2.가공설비 및 품질향상설비 |
가.웨이퍼절단설비·식각설비·회로형성설비·칩팩킹 및 조립장비 등의 반도체가공설비와 고순도 실리콘양성설비 나.제어장치가 부착된 신선기·연선기·권선기 및 테이핑기, 전극 및 자극의 착탈설비, 진공·청정·방폭 등의 공기조절설비 및 기밀 봉지설비, 도포·증착 및 성막설비, 노광·현상·식각 및 트리밍 설비, 정면·연마·연취 및 적층설비 다.매분당 방사속도가 6천미터 이상의 초고속방사설비와 고강도· 고기능 섬유의 생산설비 라.원료수지를 중합·화학변성 또는 물리변성한 제품을 제조하는 주설비 및 부속설비 |
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구분 |
적용범위 |
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마.신소재 생산설비 (1)섭씨 1천도 이상의 온도에서 가압력 1천톤 이상인 성형·정압· 고속프레스 (2)섭씨 1천350도 이상에서 언제나 소성이 가능한 고온소성설비와 분위기소성 및 가압소성설비 (3)단결정 및 다결정을 육성하는 설비 (4)광석 또는 스크랩을 제련·정련 또는 주조하는 설비와 압연·절단· 냉각·교정·직접 또는 이송하는 열간 및 냉간압연설비(냉간성형 설비를 포함한다), 공기를 포집 및 분리하여 산소를 제조하는 가스 발생기, 발전 및 수배전설비, 전압 및 전류 조정설비 (5)성형·용접·열처리·인발·신선제조 및 연선제조설비, 소재에 도금·도장하는 표면처리설비 (6)고압의 가스나 물로 용융된 금속을 분사시켜 금속분말을 제조하는 설비 (7)광석 또는 제련부산물로부터 회유금속을 제조하는 설비 (8)전기적 또는 화학적 방법에 의하여 고순도금속을 제조하는 설비 (9)레이저·플라즈마 또는 화학적 방법을 이용하여 금속의 박막을 제조하는 설비 바.항공기·비행체·위성체·유도발사체 및 그 부품(보조기기·전자 장비·동력전달장치 및 발사조정장치에 한한다)의 제조설비 사.미생물과 동·식물세포의 배양 및 증식설비, 발효공정 및 생물 공정에 관련된 장치 아. 중질유 분해설비 자.사물·환경정보를 자동인식할 수 있는 센서를 이용하여 시설물 안전관리, 환경오염관리 등의 기능을 수행하는 센서네트워크설비 차.무선상품인식기술을 이용하여 상품의 정보를 읽는 기능을 갖춘 무선상품리더기(RFID Reader) 및 안테나(Antenna) 카.유기발광 다이오드 회로형성·증착·박막봉지설비 및 조립장비 |
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3.자동계측·검사및계량설비 |
가.원료·부품 및 제품의 기계적 성질·물리적 성질·화학적 양, 전기전자적 양의 분석·검사·시험 또는 계측에 사용하는 자동화된 기기 및 설비와 원료·부품 및 제품의 기능 시험·성능시험· 작동상태점검 또는 양품선별 등을 수행하는 자동화 기기 나.생산제품을 일정량씩 자동으로 계량·계수·충전 또는 포장하는 자동포장기 및 봉합기 다.프로그램에 의하여 온도·습도·전압 및 주파수 등을 제어할 수 있는 기능을 가진 환경 및 조건부여시험기 라.엑스(X)선·방사선·레이저 또는 전자파를 이용한 검사설비 |
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구분 |
적용범위 |
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마.가공공정에서 생산제품의 치수정밀도를 연속 측정하는 설비 바.금속 및 세라믹분말의 입도를 측정하는 설비 사.금속표면에 형성된 박막의 조성·표면조도 및 자기도 측정장치 아.신호를 분석·발생 및 측정하는 설비 자.생화학적 분석 및 검사를 하는 기기와 생체현상을 측정하거나 기록하는 설비 차.컴퓨터에 접속되어 작동하는 기능분석 및 성능시험 등 기기 |
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4.정보화시설 및전기통신설비 |
가.전기통신설비 중 교환설비·전송설비·구내통신 선로설비 및 단말장치 나.무제한인터넷주소를 지원하는 라우터 및 스위치로서 「인터넷 주소자원에 관한 법률」 제2조제3호에 따른 인터넷주소관리 기관으로부터 확인을 받은 장비 다.인공지능 연산·처리를 위한 그래픽스 처리장치, 중앙처리장치 및 인공지능 연산·처리 전용 부품 |
○조세특례제한법 제24조 【통합투자세액공제】
(2020.12.29. 법률 제17759호로 개정된 것)
① 대통령령으로 정하는 내국인이 제1호가목 또는 나목에 해당하는 자산에 투자(중고품 및 대통령령으로 정하는 리스에 의한 투자는 제외한다. 이하 이 조에서 같다)하는 경우에는 제2호 각 목에 따른 기본공제 금액과 추가공제 금액을 합한 금액을 해당 투자가 이루어지는 과세연도의 소득세(사업소득에 대한 소득세만 해당한다) 또는 법인세에서 공제한다.
1. 공제대상 자산
가.기계장치 등 사업용 유형자산. 다만, 대통령령으로 정하는 자산은 제외한다.
나.가목에 해당하지 아니하는 유형자산과 무형자산으로서 대통령령으로 정하는 자산
2. 공제금액
가.기본공제 금액: 해당 과세연도에 투자한 금액의 100분의 1(중견기업은 100분의 3, 중소기업은 100분의 10)에 상당하는 금액.
다만, 대통령령으로 정하는 신성장ㆍ원천기술의 사업화를 위한 시설(이하 이 조에서 “신성장사업화시설”이라 한다)에 투자하는 경우에는 100분의 3(중견기업은 100분의 5, 중소기업은 100분의 12)에 상당하는 금액으로 한다.
나.추가공제 금액: 해당 과세연도에 투자한 금액이 해당 과세연도의 직전 3년간 연 평균 투자 또는 취득금액을 초과하는 경우에는 그 초과하는 금액의 100분의 3에 상당하는 금액.
다만, 추가공제 금액이 기본공제 금액을 초과하는 경우에는 기본공제 금액의 2배를 그 한도로 한다.
② 제1항에 따른 투자가 2개 이상의 과세연도에 걸쳐서 이루어지는 경우에는 그 투자가 이루어지는 과세연도마다 해당 과세연도에 투자한 금액에 대하여 제1항을 적용한다.
③ 제1항에 따라 소득세 또는 법인세를 공제받은 자가 투자완료일부터 5년 이내의 기간 중 대통령령으로 정하는 기간 내에 그 자산을 다른 목적으로 전용하는 경우에는 공제받은 세액공제액 상당액에 대통령령으로 정하는 바에 따라 계산한 이자 상당 가산액을 가산하여 소득세 또는 법인세로 납부하여야 한다. 이 경우 해당 세액은 「소득세법」 제76조 또는 「법인세법」 제64조에 따라 납부하여야 할 세액으로 본다.
④ 제1항을 적용받으려는 내국인은 대통령령으로 정하는 바에 따라 세액공제신청을 하여야 한다.(이하생략)
출처 : 국세청 2021. 05. 31. 사전-2021-법령해석법인-0518[법령해석과-1907] | 국세법령정보시스템
* 중앙부처 1차 해석은 부처에서 해석한 내용을 수집·제공하는 공공데이터로, 현재 기준과 다를 수 있습니다. 구체적 사안은 소관 부처에 확인하거나 전문가 상담을 권장합니다.
석유화학제품을 생산하기 위해 투자하는 생산자동화 설비 및 생산자동화 제어설비 중 주공정 또는 기능의 제어가 마이크로프로세서 등에 의하여 자동으로 조절되는 기계장치 또는 설비는 생산성향상시설투자에 대한 세액공제 대상이나, 사실판단할 사항임
석유화학제품을 생산하는 내국법인이 생산성 향상을 위하여 투자하는 「조세특례제한법 시행규칙」(2021.3.16. 기획재정부령 제831호로 개정되기 전의 것) [별표2]에 따른 「생산자동화 설비 및 생산자동화 제어설비」 중 주공정 또는 기능의 제어가 마이크로프로세서 또는 수치제어장치에 의하여 자동으로 조절되는 기계장치 또는 설비는 「조세특례제한법」(2020.12.29. 법률 제17759호로 개정되기 전의 것) 제25조제1항제6호가목에 따른 생산성향상시설투자에 대한 세액공제 대상에 해당하는 것이나
귀 사전답변 신청의 사실관계에서 ‘분산제어시스템’에 의해 원료의 투입・냉각・압축 등 및 제품의 저장・출하 등이 이루어지는 시설이 이에 해당하는지 여부는 사실판단할 사항임
1. 사실관계
○A법인은 충남에 본사를 두고 ’14.**.**. 설립되어 석유화학제품 제조업을 영위하는 법인으로 B법인이 60%, C법인이 40%의 지분을 각각 보유하고 있음
○A법인은 B법인의 공장 내 부지에 납사, 탈황 중질유, 부생가스 등 정유공장에서 발생하는 부산물을 가공하여 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등 석유화학제품을 생산하는 중질유 석유화학시설(이하 “HPC”, Heavy-feed Petrochemical Complex)을 건설하고 있는데
-해당 HPC 시설은 약 0,000억원이 소요되며 ’19사업연도에 투자를 개시하여 ’21.9월 완공을 목표로 현재 투자가 진행되고 있음
○HPC 시설에는 주공정 또는 기능의 제어가 마이크로프로세서 등에 작동하는 ‘분산제어시스템(DCS, Distributed Control System)’에 의해 원료의 투입・배합・냉각・압축 등 및 제품의 저장・출하 등이 이루어지는 시설(이하 “쟁점시설”)을 포함하고 있는데
-쟁점시설은 아래 그림과 같이 폴리에틸렌 등을 생산하는 원료인 납사, 탈황 중질유(T-DAO), LPG, 부생가스 등을 각각 저장하는 탱크(이하 “원료저장시설”)와 그 원료를 배관을 통해 혼합하여 가열・냉각・압축・정제 등을 하는 시설(이하 “제품생산시설”) 그리고, 생산된 폴리에틸렌 등을 저장하는 시설(이하 “제품저장시설”)로 구성되며
-쟁점시설은 ’19과세연도에 투자를 개시하여 ’20과세연도까지 총 약 000억원을 투입하여 현재 건설 중에 있음
[DCS의 주요 기능 ]
구분
설명
제어 스테이션
(Field Control Station, FCS)
공정상 입력된 데이터에 의해 마이크로프로세서를 통해 다양한 제어 및 연산기능을 자동으로 수행
모니터링스테이션
(Human Interface Station, HIS)
공정의 자동화 상태를 모니터링 하기 위한 장치로 각 FCS의 제어 및 운전정보를 수집하여 다른 시스템에 정보를 제공
* 엔지니어가 한 장소에서 현장 전체를 모니터링 가능
엔지니어링스테이션
(Engineering Work Station, EWS)
공정에서 제어 기능 및 모니터링 기능이 동작할 수 있도록 제어 로직의 수정 및 모니터링 스테이션 수정 등을 수행
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분산제어시스템의 역할 > |
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최적 생산조건 (목표값) 입력 |
➡ |
분산제어시스템 |
➡ |
생산의 자동화 및 효율화 |
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각 공정의 마이크로프로세서가 각 공정의 목표값에 도달할 수 있도록 자동으로 제어 |
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[ 분산제어시스템 흐름도 ]
○한편, B법인은 원유를 일정한 압력과 온도에 따라 액화석유가스(LPG), 휘발유, 납사(독일발음: 나프타), 등유・경유・중유, 아스팔트 등을 분리하는 중질유 정제 및 탈황공정기술을 보유하고 있는 정유업체이고
-C법인은 유정에서 생산되는 천연가스와 함께 나오는 휘발성 액체 탄화수소인 콘덴세이트(비중이 가벼워 ‘초경질유’에 해당) 등을 수입하여 NCC(중질유 분해설비)에서 납사를 분리하여 에틸렌과 프로필렌 등을 생산하는 기술을 보유하는 석유화학업체인데
-정유사와 석유화학회사의 합작을 통해 시너지 효과를 높이기 위해A법인을 설립하고 기존의 납사만으로 제품을 생산하던 방식에서
-납사 뿐 아니라 값싼 탈황 중질유(T-DAO), 부생가스, LPG 등을 유동적으로 혼합하여 가격경쟁력이 뛰어나고 제품의 품질이 우수한 폴리에틸렌 등을 생산하기 위해 쟁점시설에 투자하고 있는 것임
[ 저장시설 및 배관의 제어장치
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구분 |
원료 저장탱크 |
제품 저장탱크 |
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유종 |
T-DAO ・납사 등 |
폴리에틸렌 등 석유화학제품 |
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밸브제어 |
MOV(Motor Operated Valve, 개폐조절):밸브의 제어운전을 위해 사용하는 기계장치를 구동장치라고 하며, 구동장치의 구동을 위해 사용되는 Power source가 전기적인 힘에 의할 경우, 이와 같은 종류의 구동장치를 사용하는 밸브를 통칭함 MOV는 구성방식에 따라 On/Off, Open/Close, 비례제어, Time Control 등의 다양한 기능을 수행 DCS 제어 시스템과 연계하여 사용할 경우, 조정실에서 Remote Control이 가능하며 실제로 탱크 운전에 활용되고 있음. *비례제어(Proportional Control):단순 On/Off 제어보다 제어결과의 정확도를 높일 수 있는 자동제어방식 |
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레벨제어 |
LAL(Level Alarm Low)・LAH(Level Alarm High)・LAHH(Level Alarm High High): 일반적으로 저장탱크 내 설치된 Level Alarm system 의 경우, LAL・LAH・LAHH가 있음(최근 탱크의 경우 LALL까지 설치됨) LAL・LALL(Level Alarm Low Low)의 경우, 저장 탱크 내 저장된 유체의 레벨(높이)가 너무 낮아졌을 때, 이를 알려주는 시스템 ☞ 출하・공정 투입 등의 사유로 인해 저장 탱크 내 레벨이 너무 낮아질 경우, 저장 탱크 내 압력이 너무 낮아지게 되면 탱크, 펌프 등의 관련 설비 손상으로 이어질 수 있으므로 Low Level에 대한 관리가 필요 LAH・LAHH의 경우, 저장 탱크 내 저장된 유체의 레벨(높이) 가 매우 높아져 Overflow의 우려가 발생할 경우 이를 알려주는 시스템 LSHH(Level Switch High High)의 경우, LAH・LAHH 1차 및 2차 알람 시스템의 모두 고장으로 저장탱크 Overflow 위험을 놓쳤을 때, 이를 알려주기 위한 시스템으로 3차(마지막) 안전장치로 활용하기 위해 설치 ☞ Alarm System 자체적으로는 직접적인 레벨제어 운전방식이 아니지만, Alarm System을 활용하여 특정 Logic을 통해 레벨제어 운전에 사용하고 있음 |
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Mixer제어 |
LI・VAH・XL |
LI・XL |
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LI(Level Indicator): Tank Mixer Seal oil Reservoir에는 Mixer 가동 과정에서 기름유출을 방지하기 위해 Seal oil이 있으며, seal oil은 정상의 경우 어느 정도 일정한 레벨을 유지하여야 함 XL(Running Status): XL 은 Mixer 가동 후, 조정실 내에서 정상적으로 가동되고 있는지(Running status)를 확인하기 위해 설치 VAH(Vibration Alarm High): Mixer 와 같은 회전기계들은 진동이 심할 경우 이탈될 위험이 있으며, 저장탱크 외부에 설치된 Mixer 이탈이 일어나면 기름 유출 사고로 이어질 수 있는 것을 방지하기 위해 설치 |
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구분 |
원료 저장탱크 |
제품 저장탱크 |
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유종 |
T-DAO・납사 등 |
폴리에틸렌 등 석유화학제품 |
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누출제어 |
AI(Analysis Indicator): 가스류(LPG, Propylene) 저장탱크에 설치되어 있으며, 일반적으로 이와 같은 장치를 Gas Detector라고 함 Gas Detector에 설정된 일정 수준의 값을 넘어가는 수준으로 가스가 유출될 경우, 조정실로 Alarm이 울리게 설정됨 |
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온도・압력 등 제어 |
TI |
TI・PI・PCV |
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TI(Temperature Indicator)의 경우, 직접적인 탱크 제어 운전에는 사용되는 것은 아니며, 다만 저장 탱크의 온도에 따라 인위적인 행동을 취하기 위해 사용하고 있음 -TI의 사용 예로, 만약에 중유 저장탱크의 온도를 70도 이상으로 관리하여야 하는데, 저장탱크의 TI수치가 40도로 너무 낮아 동절기 유체 흐름성이 악화될 것으로 예상된다면, Steam을 공급하여 탱크온도를 유지 PI(Pressure Indicator) 의 경우, TI와 마찬가지로 직접적인 탱크제어 운전에는 사용되는 것은 아님 다만, 가스탱크와 같은 고압력 탱크에 압력이 너무 높게 운전되는 것이 PI를 통해 확인될 경우, 압력을 낮추기 위해 Tank Circulation / Vapor balancing 등의 별도의 인위적 행동을 취함 PCV(Pressure Control Valve)의 경우, BTX류 제품과 같이 변질(산화)우려가 있는 제품은 저장탱크 내 N2(Nitrogen)을 Filling하여 제품변질이 되지 않도록 유지함 -PCV는 이러한 N2 공급 밸브에 설치되어 저장탱크 내 압력에 따라 N2 를 자동적으로 공급하는 역할을 수행 |
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2. 질의요지
○주요 공정 및 기능의 제어가 마이크로프로세서에 의해 작동되는 분산제어시스템에 의해 자동으로 조절되어 석유화학제품을 생산하는 경우
-해당 분산제어시스템에 의해 자동조절되는 시설을 舊 「조세특례제한법」(2020.12.29. 법률 제17759호로 개정되기 전의 것) 제25조제1항제6호가목에 따른 생산성향상시설로 보아 투자세액공제를 적용할 수 있는지 여부
3. 관련 법령
○조세특례제한법 제25조 【특정시설투자 등에 대한 세액공제】
(2018.12.24. 법률 제16009호로 개정된 것)
①내국인이 제1호부터 제3호까지의 규정에 해당하는 시설에 2021년 12월 31일까지 투자(중고품 및 대통령령으로 정하는 리스에 의한 투자는 제외한다. 이하 이 조에서 같다)하거나 제4호에 해당하는 시설을 2021년 12월 31일까지 취득(신축, 증축, 개축 또는 구입을 포함한다. 이하 이 조에서 같다)하는 경우 또는 제5호 및 제6호에 해당하는 시설에 2019년 12월 31일까지 투자하는 경우에는 제2항에 따라 계산한 금액에 상당하는 세액을 투자를 완료한 날 또는 취득일이 속하는 과세연도의 소득세(사업소득에 대한 소득세만 해당한다) 또는 법인세에서 공제한다.
1.~ 5.(생략)
6.다음 각 목의 어느 하나에 해당하는 생산성향상시설
가.대통령령으로 정하는 공정(工程) 개선 및 자동화 시설
나.대통령령으로 정하는 첨단기술시설
다.자재조달·생산계획·재고관리 등 공급망을 전자적 형태로 관리하기 위하여 사용되는 컴퓨터와 그 주변기기, 소프트웨어, 통신시설, 그 밖의 유형·무형의 시설로서 감가상각기간이 2년 이상인 시설
② 제1항에 따라 공제할 금액은 제1항 각 호의 시설에 대한 투자금액 또는 취득금액(해당 시설에 딸린 토지의 매입대금은 제외한다. 이하 이 조에서 같다)에 다음 표에 따른 공제율을 곱한 금액으로 한다.
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시 설 |
공제율 |
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중소기업 |
중견기업 |
그 밖의 기업 |
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제1항 제1호・제2호 및 제6호의 시설 |
100분의 7 |
100분의 3 |
100분의 1 |
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제1항 제3호 및 제4호 가목부터 마목까지의 시설 |
100분의 10 |
100분의 5 |
100분의 3 |
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제1항 제4호 바목의 시설 |
100분의 10 |
100분의 10 |
100분의 10 |
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제1항 제5호의 시설 |
100분의 10 |
100분의 5 |
100분의 1 |
③ 제1항에 따른 투자가 2개 이상의 과세연도에 걸쳐서 이루어지는 경우에는 그 투자가 이루어지는 과세연도마다 해당 과세연도에 투자한 금액에 대하여 제1항을 적용받을 수 있다.
④ 제1항에 따른 투자금액의 계산에 필요한 사항은 대통령령으로 정한다.
⑤ 제1항제4호에 해당하는 시설을 취득하는 경우에 공제세액의 계산에 필요한 사항은 대통령령으로 정한다.
⑥ 제1항을 적용받으려는 내국인은 대통령령으로 정하는 바에 따라 세액공제신청을 하여야 한다.
⑦ 제1항제4호에 해당하는 시설을 취득하여 소득세 또는 법인세를 공제받은 자가 해당 자산의 준공일 또는 구입일부터 5년 이내에 그 자산을 다른 목적에 전용한 경우에는 전용한 날이 속하는 과세연도의 과세표준신고를 할 때 그 자산에 대한 세액공제액 상당액에 대통령령으로 정하는 바에 따라 계산한 이자 상당 가산액을 가산하여 소득세 또는 법인세로 납부하여야 하며, 해당 세액은 「소득세법」 제76조 또는 「법인세법」 제64조에 따라 납부하여야 할 세액으로 본다.
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법률 제16009호 부칙(2018.12.24. 개정) 제1조(시행일) 이 법은 2019년 1월 1일부터 시행한다. 다만, (단서 생략) 제9조(특정 시설 투자 등에 대한 세액공제에 관한 적용례) ①제25조제1항제1호부터 제3호까지, 제5호 및 제6호의 개정규정에 해당하는 시설에 적용되는 제25조제2항의 개정규정에 따른 공제율은 이 법 시행 이후 투자하는 분부터 적용한다. (이하생략) |
○조세특례제한법 제25조 【특정시설투자 등에 대한 세액공제】
(2019.12.31. 법률 제16835호로 개정된 것)
①내국인이 제1호부터 제3호까지, 제5호 및 제6호에 해당하는 시설에 2021년 12월 31일까지 투자(중고품 및 대통령령으로 정하는 리스에 의한 투자는 제외한다. 이하 이 조에서 같다)하거나 제4호에 해당하는 시설을 2021년 12월 31일까지 취득(신축, 증축, 개축 또는 구입을 포함한다. 이하 이 조에서 같다)하는 경우에는 제2항에 따라 계산한 금액에 상당하는 세액을 투자를 완료한 날 또는 취득일이 속하는 과세연도의 소득세(사업소득에 대한 소득세만 해당한다) 또는 법인세에서 공제한다.
1.~5.(생략)
6.다음 각 목의 어느 하나에 해당하는 생산성향상시설
가.대통령령으로 정하는 공정(工程) 개선 및 자동화 시설
나.대통령령으로 정하는 첨단기술시설
다.자재조달·생산계획·재고관리 등 공급망을 전자적 형태로 관리하기 위하여 사용되는 컴퓨터와 그 주변기기, 소프트웨어, 통신시설, 그 밖의 유형·무형의 시설로서 감가상각기간이 2년 이상인 시설
② 제1항에 따라 공제할 금액은 제1항 각 호의 시설에 대한 투자금액 또는 취득금액(해당 시설에 딸린 토지의 매입대금은 제외한다. 이하 이 조에서 같다)에 다음 표에 따른 공제율을 곱한 금액으로 한다.
다만, 제1항제6호의 시설에 2020년 1월 1일부터 2020년 12월 31일까지(중견기업 및 중소기업의 경우에는 2020년 1월 1일부터 2021년 12월 31일까지) 투자하는 경우에 대한 제1항에 따라 공제할 금액은 그 투자금액에 100분의 2(중견기업의 경우에는 100분의 5, 중소기업의 경우에는 100분의 10)를 곱한 금액으로 한다.
(세액공제율 [표] 생략)
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법률 제16835호 부칙(2019.12.31. 개정) 제1조(시행일) 이 법은 2020년 1월 1일부터 시행한다. 다만,(단서생략) 제13조(특정 시설 투자 등에 대한 세액공제에 관한 적용례) 제25조제1항 및 제2항의 개정규정은 이 법 시행 이후 투자하는 분부터 적용한다. |
○조세특례제한법 시행령 제22조의6 【생산성향상시설의 범위】
(2019.2.12. 대통령령 제29527호로 개정된 것)
① 법 제25조제1항제6호가목에서 “대통령령으로 정하는 공정(工程) 개선 및 자동화 시설”이란 공정을 개선하거나 시설의 자동화 및 정보화를 위해 투자하는 시설로서 기획재정부령으로 정하는 시설을 말한다.
②법 제25조제1항제6호나목에서 ”대통령령으로 정하는 첨단기술시설”이란 첨단기술을 이용하거나 응용하여 제작된 시설로서 기획재정부령으로 정하는 시설을 말한다.
○조세특례제한법 시행규칙 제13조의6 【생산성향상시설의 범위】
(2019.3.20. 기획재정부령 제726호로 개정된 것)
①영 제22조의6제1항에서 “기획재정부령으로 정하는 시설”이란 별표 2의 공정개선ㆍ자동화 및 정보화시설로서 해당 사업에 직접 사용되는 것을 말한다.
②(생략)
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■ 조세특례제한법 시행규칙 [별표 2] |
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공정개선·자동화·정보화시설 및 첨단기술설비 (제13조의6제1항 및 제2항 관련) |
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구분 |
적용범위 |
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1.생산자동화 설비및생산 자동화제어설비 |
가.제품의 설계 및 생산을 위한 컴퓨터와 수주·출하 및 판매 등에 대한 경영정보의 관리를 위한 컴퓨터의 본체·주변기기 [컴퓨터자동설계기(CAD)·캠(CAM)·보조기억장치·프린터·플로터· 웍스테이션·모뎀·단말기·인터베이스 및 정전압전원공급장치에 한한다] 및 소프트웨어 나.제조설비를 자동으로 제어하기 위한 공정제어기기 또는 공정 제어시스템 및 동 장치의 부분품 (1)프로그래머블로직콘트롤러(PLC) 및 수치제어장치(NC 또는 CNC)를 이용한 설비 (2)로보트 콘트롤러 및 컴퓨터통합시스템(CIM)과 관련 단위기기 (3)유공압밸브·유압펌프·공기압축기 및 유공압 액튜에이터 다.주공정 또는 기능의 제어가 마이크로프로세서 또는 수치 제어장치에 의하여 자동으로 조절되는 기계장치 또는 설비 라.2 이상의 기계를 조립하여 자동으로 제어하는 생산 또는 가공시스템(FMC·FMS 및 Transfer Line을 포함한다) 마.원자재·부품 및 완제품을 보관·저장 및 반출하기 위한 자동 창고시스템 및 하역장비(Loader & Unloader) 바.분산제어장치·종합정보표시판·무정전원공급장치·제어밸브· 신호전송기 및 부속기기 사.화학물질의 합성과정에서 요구되는 반응온도·압력 및 시간 농도를 자동으로 일정하게 유지되도록 하는 자동제어시스템· 화학반응합성장치 및 부속설비 아.3D 프린터(재료압출 방식이 적용된 것은 제외한다) 자.컴퓨터시스템에 의해 물품을 필요로 하는 위치까지 자동으로 반송하는 기능을 갖춘 무인 반송시스템 |
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2.가공설비 및 품질향상설비 |
가.웨이퍼절단설비·식각설비·회로형성설비·칩팩킹 및 조립장비 등의 반도체가공설비와 고순도 실리콘양성설비 나.제어장치가 부착된 신선기·연선기·권선기 및 테이핑기, 전극 및 자극의 착탈설비, 진공·청정·방폭 등의 공기조절설비 및 기밀 봉지설비, 도포·증착 및 성막설비, 노광·현상·식각 및 트리밍 설비, 정면·연마·연취 및 적층설비 다.매분당 방사속도가 6천미터 이상의 초고속방사설비와 고강도· 고기능 섬유의 생산설비 라.원료수지를 중합·화학변성 또는 물리변성한 제품을 제조하는 주설비 및 부속설비 |
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구분 |
적용범위 |
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마.신소재 생산설비 (1)섭씨 1천도 이상의 온도에서 가압력 1천톤 이상인 성형·정압· 고속프레스 (2)섭씨 1천350도 이상에서 언제나 소성이 가능한 고온소성설비와 분위기소성 및 가압소성설비 (3)단결정 및 다결정을 육성하는 설비 (4)광석 또는 스크랩을 제련·정련 또는 주조하는 설비와 압연·절단· 냉각·교정·직접 또는 이송하는 열간 및 냉간압연설비(냉간성형 설비를 포함한다), 공기를 포집 및 분리하여 산소를 제조하는 가스 발생기, 발전 및 수배전설비, 전압 및 전류 조정설비 (5)성형·용접·열처리·인발·신선제조 및 연선제조설비, 소재에 도금·도장하는 표면처리설비 (6)고압의 가스나 물로 용융된 금속을 분사시켜 금속분말을 제조하는 설비 (7)광석 또는 제련부산물로부터 회유금속을 제조하는 설비 (8)전기적 또는 화학적 방법에 의하여 고순도금속을 제조하는 설비 (9)레이저·플라즈마 또는 화학적 방법을 이용하여 금속의 박막을 제조하는 설비 바.항공기·비행체·위성체·유도발사체 및 그 부품(보조기기·전자 장비·동력전달장치 및 발사조정장치에 한한다)의 제조설비 사.미생물과 동·식물세포의 배양 및 증식설비, 발효공정 및 생물 공정에 관련된 장치 아. 중질유 분해설비 자.사물·환경정보를 자동인식할 수 있는 센서를 이용하여 시설물 안전관리, 환경오염관리 등의 기능을 수행하는 센서네트워크설비 차.무선상품인식기술을 이용하여 상품의 정보를 읽는 기능을 갖춘 무선상품리더기(RFID Reader) 및 안테나(Antenna) 카.유기발광 다이오드 회로형성·증착·박막봉지설비 및 조립장비 |
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3.자동계측·검사및계량설비 |
가.원료·부품 및 제품의 기계적 성질·물리적 성질·화학적 양, 전기전자적 양의 분석·검사·시험 또는 계측에 사용하는 자동화된 기기 및 설비와 원료·부품 및 제품의 기능 시험·성능시험· 작동상태점검 또는 양품선별 등을 수행하는 자동화 기기 나.생산제품을 일정량씩 자동으로 계량·계수·충전 또는 포장하는 자동포장기 및 봉합기 다.프로그램에 의하여 온도·습도·전압 및 주파수 등을 제어할 수 있는 기능을 가진 환경 및 조건부여시험기 라.엑스(X)선·방사선·레이저 또는 전자파를 이용한 검사설비 |
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구분 |
적용범위 |
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마.가공공정에서 생산제품의 치수정밀도를 연속 측정하는 설비 바.금속 및 세라믹분말의 입도를 측정하는 설비 사.금속표면에 형성된 박막의 조성·표면조도 및 자기도 측정장치 아.신호를 분석·발생 및 측정하는 설비 자.생화학적 분석 및 검사를 하는 기기와 생체현상을 측정하거나 기록하는 설비 차.컴퓨터에 접속되어 작동하는 기능분석 및 성능시험 등 기기 |
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4.정보화시설 및전기통신설비 |
가.전기통신설비 중 교환설비·전송설비·구내통신 선로설비 및 단말장치 나.무제한인터넷주소를 지원하는 라우터 및 스위치로서 「인터넷 주소자원에 관한 법률」 제2조제3호에 따른 인터넷주소관리 기관으로부터 확인을 받은 장비 다.인공지능 연산·처리를 위한 그래픽스 처리장치, 중앙처리장치 및 인공지능 연산·처리 전용 부품 |
○조세특례제한법 제24조 【통합투자세액공제】
(2020.12.29. 법률 제17759호로 개정된 것)
① 대통령령으로 정하는 내국인이 제1호가목 또는 나목에 해당하는 자산에 투자(중고품 및 대통령령으로 정하는 리스에 의한 투자는 제외한다. 이하 이 조에서 같다)하는 경우에는 제2호 각 목에 따른 기본공제 금액과 추가공제 금액을 합한 금액을 해당 투자가 이루어지는 과세연도의 소득세(사업소득에 대한 소득세만 해당한다) 또는 법인세에서 공제한다.
1. 공제대상 자산
가.기계장치 등 사업용 유형자산. 다만, 대통령령으로 정하는 자산은 제외한다.
나.가목에 해당하지 아니하는 유형자산과 무형자산으로서 대통령령으로 정하는 자산
2. 공제금액
가.기본공제 금액: 해당 과세연도에 투자한 금액의 100분의 1(중견기업은 100분의 3, 중소기업은 100분의 10)에 상당하는 금액.
다만, 대통령령으로 정하는 신성장ㆍ원천기술의 사업화를 위한 시설(이하 이 조에서 “신성장사업화시설”이라 한다)에 투자하는 경우에는 100분의 3(중견기업은 100분의 5, 중소기업은 100분의 12)에 상당하는 금액으로 한다.
나.추가공제 금액: 해당 과세연도에 투자한 금액이 해당 과세연도의 직전 3년간 연 평균 투자 또는 취득금액을 초과하는 경우에는 그 초과하는 금액의 100분의 3에 상당하는 금액.
다만, 추가공제 금액이 기본공제 금액을 초과하는 경우에는 기본공제 금액의 2배를 그 한도로 한다.
② 제1항에 따른 투자가 2개 이상의 과세연도에 걸쳐서 이루어지는 경우에는 그 투자가 이루어지는 과세연도마다 해당 과세연도에 투자한 금액에 대하여 제1항을 적용한다.
③ 제1항에 따라 소득세 또는 법인세를 공제받은 자가 투자완료일부터 5년 이내의 기간 중 대통령령으로 정하는 기간 내에 그 자산을 다른 목적으로 전용하는 경우에는 공제받은 세액공제액 상당액에 대통령령으로 정하는 바에 따라 계산한 이자 상당 가산액을 가산하여 소득세 또는 법인세로 납부하여야 한다. 이 경우 해당 세액은 「소득세법」 제76조 또는 「법인세법」 제64조에 따라 납부하여야 할 세액으로 본다.
④ 제1항을 적용받으려는 내국인은 대통령령으로 정하는 바에 따라 세액공제신청을 하여야 한다.(이하생략)
출처 : 국세청 2021. 05. 31. 사전-2021-법령해석법인-0518[법령해석과-1907] | 국세법령정보시스템